可测大尺寸样品：可测单晶片样品的尺寸为4英寸。

可远程操作：提供远程监控模块。

压力控制系统创新设计：高精度控制压力，以满足不同的工艺要求。

存储热处理工艺：方便工艺参数调取，提高实验效率，数据可查询。

快速控温与高真空：最高升温速率可达150℃/s，真空度最高可达到10^-3Pa。

程序设定与气路扩展：可实现不同温度段的精确控制，进行降温段的自动转接，并能够对工艺菜单进行保存，方便调用。采用MFC精确控制气体流量，实现不同气氛环境（真空、氮气等）下的热处理。

独特的腔体空间设计：保证大尺寸样品的温场均匀性 ≤1%。

全自动智能控制：采用全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空、冷却水等均可实现自动控制。

超高安全系数：采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障设备使用安全。

国产退火炉：拥有自主研发技术和制造能力，能快速反应客户售后需求。