结构介绍
1500单温区管式炉采用硅碳棒为加热元件，额定温度1400℃，较高温度可达1450℃。采用宇电控温仪表和S型热电偶，可编程30段程序控温，控温精度±1℃。设备中包含一套316L不锈钢快开法兰，双环密封技术，可应用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛下材料烧结、基片镀膜等实验环境。法兰两端加配支架，减轻炉管负重，保证炉管使用寿命。