NANO-MASTER支持两个系统的任意组合。在产品册上可找到的ALD，溅射，蒸镀，离子铣或IBE，RIE，PECVD等均可以配置为双系统。通过共享真空系统和可能的离子源电源，成本得以下降。腔体通过门阀相互隔离并可以独立抽真空和卸真空。进样室或真空腔体之间的传输可以选配。

特点：

• 26”x44”占地面积及密封面板柜体，对超净间非常理想

• 基于计算机全自动工艺控制，菜单驱动

• 控制系统通过选择用户权限自动切换

• LabView友好用户界面

• EMO保护及安全联锁

• 共享两套系统的各自功能(参考各自的系统)

应用：

• 各种刻蚀应用

• 各种薄膜沉积应用

• 各种生长应用

• 不间断真空环境的双工序应用

• 具体应用可以参考两个系统的各自应用

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选配：

• 自动上下片(任意腔体)

• 前级泵升级为干泵

• 分子泵可以升级为680L/Sec或1200L/Sec

• ​两个腔体之间自带传输腔，实现前后双工序