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摩方精密nanoArch® S140技术参数
| 品牌 | 摩方精密 | 型号 | S140 |
摩方精密nanoArch® S140详细介绍
nanoArch® S140 系统简介
光学精度：10μm；
打印幅面：94×52mm；
超高精度大幅面增材制造设备。
打印幅面：94×52mm；
超高精度大幅面增材制造设备。
系统性能
| 性能参数 | nanoArch® S140 产品规格 |
|---|---|
| 光源 | UV-LED(405nm) |
| 打印材料 | 光敏树脂 |
| 光学精度 | 10μm |
| 打印层厚 | 10~40μm |
| 打印样品尺寸 | 模式1：单投影模式：19.2mm(L)×10.8mm(W)×45mm(H) 模式2：拼接模式：94mm(L)×52mm(W)×45mm(H) 模式3：重复阵列模式：94mm(L)×52mm(W)×45mm(H) |
| 打印文件格式 | STL |
| 系统外形尺寸 | 1000mm(L)×700mm(W)×1600mm(H) |
| 机器外形尺寸 | 650mm(L)×650mm(W)×750mm(H) |
| 重量 | 245kg |
| 电气要求 | 220~240V AC,50/60HZ,2KW |
系统特点
超高精度（光学精度高达10μm）
低层厚（10μm~40μm的打印层厚效果对比）
微尺度打印能力
光学监控系统，自动对焦功能
优良的光源稳定性
配套功能强大的打印软件、切片软件
应用案例
跨尺度微点阵结构
倾斜微针结构
乳液生成器
140样件
