Plasma Source等离子体源1:

NANO-MASTER

淋浴头等离子体源SH-1000

• 射频淋浴头等离子体源

• 气体通过射频板

• 二级板将其他气体引入等离子体

• 水冷却

• 至大600瓦

• 可在0.02托至8托之间操作

• 8英寸有效区域

• ISO 250法兰

2:

空心阴极13.56 MHz射频等离子体源

• 支持扩展功率和气压范围操作

• 高浓度高活性高均匀性等离子体（1011 cm-3）

• 兼容化学反应和非化学反应气体

• 等幅波和脉冲电源

• 低污染

• 等离子增强化学气相沉积

• 等离子聚合

• 等离子清洁

• 等离子刻蚀

• 表面改性

• 600mm线性等离子源

• 900mm线性等离子源

3:

SLAN（SLot ANtenna）2.45 GHz微波等离子体源

• 高浓度等离子体

• 压力范围在10-5毫巴到大气压

• 兼容化学反应和非化学反应气体

• 低污染

• 电子回旋共振(ECR)或非电子回旋共振(non-ECR)操作

• 等幅波和脉冲电源

• 等离子增强化学气相沉积

• 等离子聚合

• 等离子清洁

• 等离子刻蚀

• 表面改性

• 材料科学

• 直径4厘米

• 直径16厘米

• 直径67厘米

4:

电感耦合等离子体源ICP-P 200（13.56MHz）

• 200毫米直径的平面线圈

• 扩展功率范围在3-1200瓦

• 低能量扩散

• 高浓度高活性等离子体

• 低污染

• 等幅波和脉冲电源

• 等离子增强化学气相沉积

• 等离子聚合

• 等离子清洁

• 等离子刻蚀

• 表面改性