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大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems技术参数
品牌 | 美国Neocera | 型号 | Large-Area PLD Systems |
大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems产品特点
•全自动大尺寸PLD系统
•晶圆尺寸:4 "(100毫米),6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直径
•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积
•高
•晶圆尺寸:4 "(100毫米),6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直径
•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积
•高
大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems详细介绍
产品简介
Neocera大尺寸PLD系统用于在各种衬底上沉积各种高质量的薄膜,晶圆(wafer)直径可达8 "(200毫米)。基片旋转结合激光扫描提供整个晶圆区域的厚度均匀性。激光束扫描附件采用了独特的Neocera设计,当激光束扫描时,可以在目标上产生固定的激光通量(J/cm2)。当激光束通过目标表面扫描时,激光束扫描使用独特的扫描程序。激光位置在目标上的停留时间遵循逆速度程序,促进了薄膜厚度的良好控制。用户可以完全控制扫描参数的必要改变,厚度轮廓取决于沉积压力。
产品特点
•全自动大尺寸PLD系统
•晶圆尺寸:4 "(100毫米),6 "(150毫米)和8 "(200毫米)直径
•外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积
•高温下氧化膜沉积的氧相容性
•自动激光扫描厚度均匀性
技术参数
1.衬底尺寸:(直径)4 " (100mm),6 " (150mm)和8 " (200mn)
2.PLD腔室尺寸:18英寸直径球体或圆柱体。
3.衬底加热:850 ℃(4 "wafers)),750℃(6 "wafers),700℃(8" wafers)
4.目标旋转: 直径4 × 2"
5.厚度均匀性: ±5%或更好。
6.工业气体: O2, N2, Ar, (MFC控制)
7.Loadlocks: 包括
8.自动化: Windows 7, LabView 2013