1200℃预加热滑动双温区/多温区PECVD系统技术参数
品牌 | 中环 | 型号 | 1200℃预加热滑动双温区/多温区PECVD系统 |
1200℃预加热滑动双温区/多温区PECVD系统详细介绍
产品应用:
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成:
PECVD系统配置:
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.滑动系统分为手动、电动滑动,并配置管内测温系统。
3.预加热开启式管式电炉
4.等离子射频电源
5.多路质量流量控制系统
6.真空系统(可选配中真空或高真空)
产品特点:
生长温度低;沉积速率快;成膜质量好,适用范围广,设备简单。