美国那诺-马斯特产品列表-那诺—马斯特中国有限公司

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美国那诺-马斯特

美国那诺-马斯特简介

: Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国，该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司，是一家国际领先的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备，正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。; 更新时间：2024-06-22 09:44:56

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排序方式：

PECVD设备 NPE-4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉积系统那诺-马斯特

NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l

Deposition沉积系统 PECVD等离子化学气相沉积系统
更新时间：2024-06-22 16:03:35 游览次数：3
PECVD设备 NPE-4000(ICPA)自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统那诺-马斯特

NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可达6" 基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/se

Deposition沉积系统 PECVD等离子化学气相沉积系统
更新时间：2024-06-22 16:03:35 游览次数：3
CVD设备微波等离子化学气相沉积系统那诺-马斯特

NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用25

Deposition沉积系统 PECVD等离子化学气相沉积系统
更新时间：2024-06-22 16:03:35 游览次数：2
磁控溅射镀膜设备 NSC-4000（A）全自动磁控溅射系统那诺-马斯特

立式自动系统，带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：1
磁控溅射镀膜机 NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统那诺-马斯特

立式自动系统，带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：3
磁控溅射设备 NSC-3500（M）磁控溅射系统那诺-马斯特

带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达8“旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：2
磁控溅射镀膜机 NSC-3000（A）全自动磁控溅射系统那诺-马斯特

台式自动系统，带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：1
离子溅射仪 NSC-3000（M）磁控溅射系统那诺-马斯特

带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：2
NSC-1000磁控溅射系统那诺-马斯特磁控溅射镀膜厂家

带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：1
磁控溅射仪 NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机那诺-马斯特

先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热（可加热至700度）功能；8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:32 游览次数：2
磁控溅射真空镀膜机 NSC-4000（M）磁控溅射系统那诺-马斯特

带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达到到8“旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:32 游览次数：2
电子束蒸发镀膜机 NEE-4000（M）电子束蒸发系统那诺-马斯特

NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两个腔体之间的门阀可以作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，实现基片通过主腔体放入基片到样平台（或

Deposition沉积系统 E-Beam电子束蒸发系统
更新时间：2024-06-22 16:03:32 游览次数：2
电子束蒸发镀膜机 NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统那诺-马斯特

NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，通过主腔放入基片到样平台（或夹具）上或从中取出。

Deposition沉积系统 E-Beam电子束蒸发系统
更新时间：2024-06-22 16:03:32 游览次数：2
蒸发镀膜设备 NTE-4000（A）全自动热蒸发系统那诺-马斯特

1、设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。 2、具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作

Deposition沉积系统 TE热蒸发镀膜系统
更新时间：2024-06-22 16:03:32 游览次数：2
蒸发镀膜机 NTE-4000（M）热蒸发系统那诺-马斯特

1、设备具有占地面积小、干净、均匀、可控及可重复的工艺特点。 2、具有低价格, 高性能以及高能力的特点，可满足于客户研发及小规模生产的应用要求，该系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作

Deposition沉积系统 TE热蒸发镀膜系统
更新时间：2024-06-22 16:03:32 游览次数：2
蒸发镀膜设备 NTE-3500（A）全自动热蒸发系统那诺-马斯特

1、提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-3500，NTS-4000)，具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统，我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力，这样可以充分利用溅射和蒸发技术

Deposition沉积系统 TE热蒸发镀膜系统
更新时间：2024-06-22 16:03:32 游览次数：2