Deposition沉积系统产品列表-那诺—马斯特中国有限公司

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美国那诺-马斯特

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磁控溅射系统 NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机高校&科研专用

NSC-3500全自动磁控溅射镀膜机概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-23 00:23:31 游览次数：2
磁控溅射镀膜机 NSC-3500全自动磁控溅射系统高校&科研专用

NSC-3500全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-23 00:17:02 游览次数：3
PVD真空镀膜机 NOC-4000光学镀膜设备那诺-马斯特

NANO-MASTER NOC-4000光学镀膜设备提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支

Deposition沉积系统进口光学镀膜机
更新时间：2024-06-22 23:34:31 游览次数：1
光学镀膜机 NOC-4000光学镀膜系统那诺-马斯特

NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术，在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光，然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆，整个过程不间断真空。系统的设计也可以支

Deposition沉积系统进口光学镀膜机
更新时间：2024-06-22 23:34:31 游览次数：3
PLD镀膜 NPD-4000（A）全自动PLD脉冲激光沉积系统那诺-马斯特

1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大

Deposition沉积系统 PLD脉冲激光沉积
更新时间：2024-06-22 16:03:36 游览次数：2
脉冲激光沉积 NPD-4000（M）PLD脉冲激光沉积系统那诺-马斯特

1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀； 3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制； 4. 发展潜力巨大

Deposition沉积系统 PLD脉冲激光沉积
更新时间：2024-06-22 16:03:36 游览次数：2
plasma设备 NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统那诺-马斯特

NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，具有分形气流分布优势.样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加

Deposition沉积系统 PECVD等离子化学气相沉积系统
更新时间：2024-06-22 16:03:36 游览次数：3
PECVD镀膜设备 NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统那诺-马斯特

NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势

Deposition沉积系统 PECVD等离子化学气相沉积系统
更新时间：2024-06-22 16:03:35 游览次数：2
PECVD设备 NPE-4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉积系统那诺-马斯特

NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l

Deposition沉积系统 PECVD等离子化学气相沉积系统
更新时间：2024-06-22 16:03:35 游览次数：3
PECVD设备 NPE-4000(ICPA)自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统那诺-马斯特

NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可达6" 基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/se

Deposition沉积系统 PECVD等离子化学气相沉积系统
更新时间：2024-06-22 16:03:35 游览次数：3
CVD设备微波等离子化学气相沉积系统那诺-马斯特

NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用25

Deposition沉积系统 PECVD等离子化学气相沉积系统
更新时间：2024-06-22 16:03:35 游览次数：2
磁控溅射镀膜设备 NSC-4000（A）全自动磁控溅射系统那诺-马斯特

立式自动系统，带有水冷或者加热（Z高可加热到700度）功能，Z大到6“旋转平台，Z大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：1
磁控溅射镀膜机 NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统那诺-马斯特

立式自动系统，带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：3
磁控溅射设备 NSC-3500（M）磁控溅射系统那诺-马斯特

带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达8“旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：2
磁控溅射镀膜机 NSC-3000（A）全自动磁控溅射系统那诺-马斯特

台式自动系统，带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：1
离子溅射仪 NSC-3000（M）磁控溅射系统那诺-马斯特

带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达6“旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基

Deposition沉积系统磁控溅射系统
更新时间：2024-06-22 16:03:33 游览次数：2