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离子束刻蚀 NIE-4000IBE离子束刻蚀系统 那诺-马斯特
品牌美国那诺-马斯特
型号NIE-4000
同类产品IBE离子束刻蚀系统(8件)
供应商报价

面议

所在地美洲 美国
那诺—马斯特中国有限公司

第1年

企业类型:
所在地:香港 香港

售全国

经营业务:
更新时间:2024-06-22 09:42:22
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离子束刻蚀 NIE-4000IBE离子束刻蚀系统 那诺-马斯特技术参数
品牌 美国那诺-马斯特 型号 NIE-4000
离子束刻蚀 NIE-4000IBE离子束刻蚀系统 那诺-马斯特产品特点
NIE-4000IBE离子束刻蚀系统:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期
离子束刻蚀 NIE-4000IBE离子束刻蚀系统 那诺-马斯特详细介绍

NIE-4000.png

NIE-4000IBE离子束刻蚀系统概述:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时,旋转晶圆片以达到想要的均匀度。


产品特点:

  • 14.5"不锈钢立体离子束腔体

  • 16cm DC离子枪1000eV,500mA, 气动不锈钢遮板

  • 离子束中和器

  • 氩气MFC

  • 6"水冷样品台

  • 晶片旋转速度3、10RPM,真空步进电机

  • 步进电机控制晶圆片倾斜

  • 手动或自动上下载晶圆片

  • 典型刻蚀速率:铜200 ?/min, 硅:500 ?/min

  • 6"范围内,刻蚀均匀度+/-3%

  • 极限真空5x10-7Torr,20分钟内可达到10-6Torr级别(配套500 l/s涡轮分子泵)

  • 配套1000 l/s涡轮分子泵,极限真空可达8x10-8Torr

  • 磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化

  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

  • 菜单驱动,4级密码访问保护

  • 完整的安全联锁


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