设备简介：

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或纳米材料的方法，是半导体工业中应用广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；

本设备基于新能源领域客户需求定制，反应气体包括易燃易爆及有毒有害气体，及通过气相发生器气化的液体。多路质量流量计精确控制进气量。高精度压力传感器、电磁阀、气体检测仪、报警器及尾气处理罐，确保工作过程的安全、高效及无害化排放。

1.通过高精度氧分析仪确保无氧工作环境；

2.物料在基于旋转摆振结构的异形石英腔内，能够在稳定均匀的温场内，与反应气体充分接触；

3.独有悬挂式气相发生器，能够在工作腔摆振的同时，始终保持水平稳定输出；

4.多路质量流量控制器，可精确控制气体流量；

5.高密封性连接工艺，确保可燃性气体及有毒有害气体无任何泄露，高灵敏度压力传感器及电磁阀可保证工作腔室内的压力始终在设定范围；

6.易燃易爆及有毒有害气体检测仪与设备联动，可及时获取实时数据并采取相应闭合措施，同时，两个报警仪在超出设定警戒值时发出预警提示；

7.工作腔室排出的尾气通过尾气处理瓶进行无害化处理。