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品牌 | 河南诺巴迪 | 型号 | NBD-T1700-80TIG2Z |
设备简介: 化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域; | |||
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技术参数:
| 系统描述 | ||||||||
产品型号 | NBD-T1700-80ITG3Z | ||||||||
工作温度 | ≤1650℃ | ||||||||
加热区尺寸 | 310mm | ||||||||
恒温区尺寸 | 220mm | ||||||||
升温速率 | ≤20℃/min | ||||||||
电气规格 | AC 220V 4.5KW | ||||||||
温区位置显示 | 将设备温区直接在设备壳体上显示出来,便于客户在合适的位置上放置样品 | ||||||||
控制系统 | |||||||||
气体系统(可根据需求搭配) | 流量计类型 | 浮子流量计 | 质量流量计 | ||||||
管道示意图 | |||||||||
进气接口数量 | 2、3、4(多路可选) | ||||||||
流量范围 | 20-200/60-600l/min(多量程可选) | 50/100/200sccm(多量程可选) | |||||||
工作压差范围 | 0-0.15MPa | ||||||||
低真空系统(可根据需求搭配) | 真空泵型号 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | |||||
抽气速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | ||||||
进排气口尺寸 | Φ8mm宝塔接头 | Φ8mm宝塔接头 | KF16/25 | ||||||
极限压力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | ||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||
电气规格 | AC220V | ||||||||
分子泵高真空系统 (可根据需求搭配) | 分子泵系统型号 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) | |||||
抽气速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s | ||||||
真空测量计 | 复合真空计 | ||||||||
极限压力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa | ||||||
工作温度 | 5-40℃ | ||||||||
电气规格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V | ||||||
* 支持非标定做,更多型号,欢迎来电垂询。 |
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